삼성전자, 반도체 미세화 6.4조 투자 - 소재 관련주

삼성전자 화성 극자외선(EUV) 라인 기공식'을 열고 본격적으로 공장 건설에 착수했다고 밝혔다. 23일 착공에 들어간 삼성전자 화성 EUV 라인은 2019년 하반기 완공해 시험 생산을 거쳐 2020년부터 가동을 시작할 예정이다. 

삼성전자가 화성 EUV 라인에 집행한 2020년까지의 초기 투자금은 60억달러(6조4700억원)에 달한다.

화성 EUV 라인의 핵심인 EUV 노광 장비는 반도체 미세공정 한계 극복에 필수적인 설비다. 

삼성전자는 그동안 반도체 공정 미세화를 통해 집적도를 높이고, 세밀한 회로를 구현해 반도체 성능과 전력 효율을 높인 제품을 만들어왔다. 하지만 최근 한 자릿수 나노미터(㎚, 10억분의 1m) 단위까지 미세화가 진행됨에 따라 보다 세밀한 회로를 구현을 위해 기존 불화아르곤(ArF) 광원보다 파장이 짧은 EUV 노광 장비 도입이 불가피했다. 

삼성전자는 EUV 노광 장비 도입 전 기존 노광 장비로 구현할 수 있는 가장 미세한 공정인 8LPP(8나노 Low Power Plus) 공정을 2017년 개발 완료했다. 삼성전자는 EUV 노광 장비 도입으로 반도체 성능과 전력 효율을 높이고, 회로 형성을 위한 공정 수를 줄여 생산성을 획기적으로 높일 수 있을 것으로 내다본다.

삼성전자는 화성 EUV 라인을 통해 향후 고성능과 저전력이 요구되는 첨단 반도체 시장 수요에 대응하고, 7나노 이하 파운드리 미세공정 시장을 주도해 나간다는 계획이다. 김기남 삼성전자 DS부문장은 "화성 캠퍼스는 EUV 신규 라인 구축을 통해 기흥·화성·평택으로 이어지는 반도체 클러스터의 중심이 될 것이다"라고 밝혔다.

이러한 삼성전자 반도체미세화 공정에 필요한 필수 소재의 수혜가 예상된다. 

네패스

플립칩 범핑 기술 보유. 삼성전자 시스템 LSI 사업부의 WLP(웨이퍼레밸패키지 ) 담당.

솔브레인

반도체· 디스플레이 소재 생산. 식각액 생산.

효성

섬유·화학 제품 제조사로, '17년 증착 공정용 특수가스인 NF3(삼불화질소)의 중국 진출 예정.

디엔에프

미세화의 핵심인 멀티패터닝 공정에 쓰이는 전구체, 캐패시터의 유전율을 높여주는 소재 제조. 

공장 추가 건설을 위해 토지 및 건물 115억원에 매입 결정

원익머트리얼즈

증착 공정용 특수가스인 GeH4(사수소화게르마늄), Si2H6(디실란), NH3(암모니아) 제조 업체.

에프엔에스테크

OLED 박리기·식각기·세정기 제조사로, UV램프와 총유기탄소(TOC) 산화장치 등의 부품도 제조. 

최근엔 반도체 소재인 CMP 패드 시장에도 진출.

SK머티리얼즈

반도체 증착 공정용 특수가스인 NF3(삼불화질소), SiH4(모노실란) 등 제조. 

SKC로부터 산업용 가스 제조사인 SKC에어가스 인수(지분율 80%, 2016.3.31).

타이거일렉

반도체 후공정 검사용 소모품을 구성하는 초고다층 인쇄회로기판(PCB) 제조사.

메카로

반도체용 전구체 및 히터블록을 생산하는 반도체 소재·부품 전문 기업, 4차 산업 수혜 기대

하나머티리얼즈

반도체 제조공정용 실리콘 소재·부품 생산업체로, LAM·TEL·AMAT·SEMES 등 글로벌 장비업체에 납품.

한솔케미칼

제지용 라텍스, 반도체 공정용 과산화수소(식각액) 생산.